一、發(fā)明專利申請的流程是什么

依據(jù)專利法，發(fā)明專利申請的審批程序分為受理、初審、公布、實質審查和授權五個階段：

（1）受理階段

專利局收到專利申請后進行審查，如果符合受理條件，專利局將確定申請日，給予申請?zhí)?，并且核實過文件清單后，發(fā)出受理通知書，通知申請人。如果申請文件未打字、印刷或字跡不清、有涂改的；或者附圖及圖片未用繪圖工具和黑色墨水繪制、照片模糊不清有涂改的；或者申請文件不齊備的；或者請求書中缺申請人姓名或名稱及地址不詳?shù)?；或專利申請類別不明確或無法確定的，以及外國單位和個人未經涉外專利代理機構直接寄來的專利申請不予受理。

（2）初步審查階段

經受理后的專利申請按照規(guī)定繳納申請費的，自動進入初審階段。初審前發(fā)明專利申請首先要進行保密審查，需要保密的，按保密程序處理。

在初審是要對申請是否存在明顯缺陷進行審查，主要包括審查內容是否屬于《專利法》中不授予專利權的范圍，是否明顯缺乏技術內容不能構成技術方案，是否缺乏單一性，申請文件是否齊備及格式是否符合要求。若是外國申請人還要進行資格審查及申請手續(xù)審查。不合格的，專利局將通知申請人在規(guī)定的期限內補正或陳述意見，逾期不答復的，申請將被視為撤回。經答復仍未消除缺陷的，予以駁回。發(fā)明專利申請初審合格的，將發(fā)給初審合格通知書。對實用新型和外觀設計專利申請，除進行上述審查外，還要審查是否明顯與已有專利相同，不是一個新的技術方案或者新的設計，經初審未發(fā)現(xiàn)駁回理由的。將直接進入授權秩序。

（3）公布階段

發(fā)明專利申請從發(fā)出初審合格通知書起進入公布階段，如果申請人沒有提出提前公開的請求，要等到申請日起滿18個月才進入公開準備程序。如果申請人請求提前公開的，則申請立即進入公開準備程序。經過格式復核、編輯校對、計算機處理、排版印刷，大約3個月后在專利公報上公布其說明書摘要并出版說明書單行本。申請公布以后，申請人就獲得了臨時保護的權利。

（4）實質審查階段

發(fā)明專利申請公布以后，如果申請人已經提出實質審查請求并已生效的，申請人進入實審程序。如果申請人從申請日起滿一年還未提出實審請求，或者實審請求未生效的，申請既被視為撤回。

在實審期間將對專利申請是否具有新穎性、創(chuàng)造性、實用性以及專利法規(guī)定的其它實質性條件進行全面審查。經審查認為不符合授權條件的或者存在各種缺陷的，將通知申請人在規(guī)定的時間內陳述意見或進行修改，逾期不答復的，申請被視為撤回，經多次答復申請仍不符合要求的，予以駁回。實審周期較長，若從申請日起兩年內尚未授權，從第三年應當每年繳納申請維持費，逾期不繳的，申請將被視為撤回。

實質審查中未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，將按規(guī)定進入授權程序。

（5）授權階段

實用新型和外觀設計專利申請經初步審查以及發(fā)明專利申請經實質審查未發(fā)現(xiàn)駁回理由的，由審查員作出授權通知，申請進入授權登記準備，經對授權文本的法律效力和完整性進行復核，對專利申請的著錄項目進行校對、修改后，專利局發(fā)出授權通知書和辦理登記手續(xù)通知書，申請人接到通知書后應當在2個月之內按照通知的要求辦理登記手續(xù)并繳納規(guī)定的費用，按期辦理登記手續(xù)的，專利局將授予專利權，頒發(fā)專利證書，在專利登記簿上記錄，并在2個月后于專利公報上公告，未按規(guī)定辦理登記手續(xù)的，視為放棄取得專利權的權利。

二、申請發(fā)明專利需要哪些材料

申請發(fā)明專利所需文件：發(fā)明專利請求書；說明書；權利要求書；說明書摘要；有附圖的可同時提交說明書附圖和摘要附圖。以上文件要求一式兩份。要求減緩各種專利費用的可同時提交費用減緩請求書二份。以上文件必須是打印文字（采用4、小4或5號字的宋體、仿宋體打字或印刷，字跡為黑色，一定要清晰；紙張為A4的打印紙或復印紙；文章版心位置：距紙張的上邊和左邊留有2.5厘米的邊距，距右邊和下邊留有1.5厘米的邊距），并且一律采用專利局規(guī)定的表格格式。

（一）請求書的撰寫：按照表格的內容及提示填寫。

（二）說明書的撰寫：按照發(fā)明或實用新型名稱、所屬技術領域、背景技術、發(fā)明創(chuàng)造的目的、技術方案、有益效果、結合附圖做進一步說明、具體實施方式這些步驟逐一進行論述。

（三）權利要求書的撰寫：應以說明書為依據(jù)，分獨立權利要求和從屬權利要求。當有多項權利要求時，應以阿拉伯數(shù)字按順序編號，一般情況下第1項權利要求即為獨立權利要求，余下為從屬權利要求，需要對獨立權利要求中的技術特征做進一步限定的，即為從屬權利要求。

1、獨立權利要求通常分前序部分和特征部分：

a． 前序部分，寫明要求保護的主題名稱以及與現(xiàn)有技術共有的必要技術特征；

b． 特征部分，使用“其特征是．．．．．．”或類似的用語，寫明區(qū)別于現(xiàn)有技術的獨到技術特征。前序部分與特征部分一起，構成了該專利申請要求保護的范圍。

2、從屬權利要求的撰寫包括引用部分和限定部分：

a． 引用部分：寫明引用的權利要求的編號及其主題名稱；

b． 限定部分：寫明要求保護的附加技術特征。

（四）說明書附圖的繪制：實用新型專利必須要有附圖；發(fā)明專利一般有附圖，但如果僅用文字就足以清楚、完整地描述技術方案的，可以沒有附圖。

1、附圖可以采用多種形式：

a． 對于機械領域的發(fā)明創(chuàng)造可以采用各種視圖反映產品的形狀和結構。

b． 對于電器領域的發(fā)明創(chuàng)造可以是電路圖、框圖、示意圖；

c． 對于化學領域的發(fā)明創(chuàng)造可以用化學結構式作為附圖；

d． 對于方法發(fā)明，附圖可以是表示該方法各步驟的工藝流程圖。

2、附圖的要求：

a． 附圖應當符合機械制圖國家標準，即應當使用繪圖工具(或電腦繪圖)，用黑色墨水繪制,線條均勻清晰,圖面不著色,圖周圍不加框線,不要使用鉛筆圓株筆繪制，但附圖不用標注比例和尺寸數(shù)據(jù)。

b． 附圖的大小和清晰度，應當保證圖縮小到4×6厘米時，仍能清晰地分辨出圖中的各個細節(jié)，并符合照相制版的要求；

c． 同一專利申請的幾幅附圖，可以繪制在同一張專用格式的紙上，并用阿拉伯數(shù)字按順序編號，用“圖××”的形式來表示。

d． 同一專利申請有多頁附圖的，應用阿拉伯數(shù)字連續(xù)編寫頁碼；

e． 同一專利申請中使用的附圖標記必須前后一致，在說明書中未提及的標記不得在附圖中出現(xiàn)；

f．附圖中除必要的詞語外，不應當含有其它注釋。

（五）說明書摘要的撰寫：

a． 摘要應當寫明發(fā)明或者實用新型所屬的技術領域、需要解決的技術問題、主要技術特征和用途。對申請實用新型的產品應寫出其形狀、構造或者其結合的特征。不應寫成廣告或單純產品的功能介紹；

b． 摘要不應加標題，可以連續(xù)書寫；

c．.對于化學領域的發(fā)明，摘要可以包括申請的化學式中最能說明發(fā)明特點的一個化學式。摘要也可以包括數(shù)學式或反應式。

d． 摘要不用分段，全文不得超過200字。

（六）摘要附圖的繪制：對于說明書中有附圖的，應單獨提交一幅從說明書附圖中選出的、最能說明技術特征的一個附圖，來作為摘要附圖，附圖的大小和清晰度應保證在該圖縮小到4×6厘米時，仍能清晰地分辨出圖中的各個細節(jié)。